저자가 자기 증명 논문을 AI slop이라고 불렀습니다.

ASML이 9월 8일 인텔 파운드리, TSMC, 삼성전자와 공동성명을 내고 하이NA용 포토마스크를 6인치에서 12인치로 옮기기로 했습니다. 반도체 업계가 수십 년 써온 규격입니다.

큰 마스크를 쓰면 highNA 장비의 생산성이 약 40% 좋아진다는 것이 ASML의 계산입니다. 시험 라인은 2031년, 양산 적용은 2033년이 목표입니다.

장비 자체는 그보다 먼저 들어옵니다. 삼성은 2028년, TSMC는 2030년부터 highNA를 양산에 쓸 계획이고 인텔은 이미 쓰고 있습니다. 한 대 가격은 4억달러 수준입니다.